一、生产三氯氢硅的主要原料是什么
也叫硅氯仿、硅仿、三氯硅烷。
制法：
(1)在高温下si和hcl反应。
(2)用氢还原四氯化硅(采用含铝化合物的催化剂)。
二、多晶硅原料为什么不用四氯化硅用三氯氢硅
两种理论上都是都可以的 但是使用四氯化硅与氢气反应生产多晶硅的反应比较难,比三氯氢硅与氢气反应难,能耗很高,要亏本的啊
看看下面的资料：
四氯化硅氢还原法
（1） 工业粗硅氯化制备四氯化硅
目前,sicl4的工业制备方法,一般是采用直接氯化法,将工业粗硅在加热条件下直接与氯反应制得sicl4.工业上常用不锈钢（或石英）制的氯化炉,将硅铁装入氯化炉,从氯化炉底部通入氯气,加热至200~300℃时,就开始反应生成sicl4,其化学反应为：
si + 2cl2 = sicl4
生成的sicl4以气体状态从炉体上部转至冷凝器,冷却为液态后,再流入储料槽.
在生产中,一般将氯化温度控制在450~500℃,这样一方面可提高生产率,另一方面可保证质量,因为温度低时不仅反应速度慢,而且有副产品si2cl6、si3cl8等生成,影响产品纯度,但若温度过高,硅铁中其它难挥发杂质氯化物也会随sicl4一起挥发出来,影响sicl4纯度.
（2） 精馏提纯四氯化硅
四氯化硅中通常含有铁、铝、钛、硼、磷等杂质,但这些杂质可以通过精馏的方法除去.其原理就是根据四氯化硅与杂质沸点不同,它们具有不同的挥发能力,因而可以通过控制温度而将sicl4与杂质分离,达到提纯的目的.
（3） 纯四氯化硅的氢还原
精馏提纯后的四氯化硅与高纯度的氢气在高温的还原炉内发生还原反应而制得高纯硅,其反应如下：
sicl4+2h2=si+4hcl↑
实际反应比较复杂.由于sicl4被氢还原的速率较sihcl3氢还原法低,因此目前使用sicl4氢还原法制高纯硅的较少.
三、三氯氢硅是干什么用的
三氯氢硅用作有机硅化合物的原料，也是生产多晶硅的基本原料。
三氯氢硅是一种无机化合物，化学式为sihcl3。它是一种无色有刺激腥臭味的液体，遇水分解，溶于二硫化碳、四氯化碳、氯仿、苯等。易燃，在空气中能自燃。有毒！
三氯氢硅（hsicl3）是一种用途非常广泛的有机硅单体，主要用于生产半导体硅、单晶硅和多晶硅的原料，亦是合成有机硅烷和烷基、芳基以及有机官能团氯硅烷最基本的单体。
经干燥的硅粉在氯化沸腾炉中与干燥氯化氢气体在340°c下进行反应，生成的粗三氯氢硅经湿法除尘器、列管冷凝器去蒸馏塔分离四氯化硅，再经冷凝，得成品。利用硅铁和hcl的反应也可以得到产物。
三氯氢硅产品可采用不锈钢桶装，每桶净重40kg，桶上必须装有排放尾气阀门并应有明显的“易燃品"标志；或装于干燥、清洁、专用的槽车内，三氯氢硅为易燃物品，运输中应防止猛烈撞击及接近火源。
三氯氢硅遇水会分解，属易燃液体，应贮存于通风、干燥的贮罐里存放，与火源隔绝，保质二年。
